Coating di film sottili: quest'impianto di deposizione di film sottili è dotato di alimentatori in continua e in radiofrequenza, per questo motivo è in grado di depositare materiali molto diversi tra di loro come metalli, isolanti e semiconduttori. La macchina è equipaggiata con 4 target da 4 pollici di diametro, stazione riscaldante fino a 650 °C ed ha la possibilità di effettuare lo sputter-etching dei substrati.