Descrizione
Coating di film sottili: quest'impianto di deposizione di film sottili è dotato di alimentatori in continua e in radiofrequenza, per questo motivo è in grado di depositare materiali molto diversi tra di loro come metalli, isolanti e semiconduttori. La macchina è equipaggiata con 4 target da 4 pollici di diametro, stazione riscaldante fino a 650 °C ed ha la possibilità di effettuare lo sputter-etching dei substrati.
Informazioni
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Localizzazione: XXXXXX
Inventario: XXXXXX
Numero di serie: XXXXXX
Valore: XXXXXX