Descrizione
<p>Metallizzazioni a film sottile ad alto vuoto per semiconduttori o comunque per applicazioni in cui serva un elevato controllo di spessore e purezza del materiale da depositare. L'apparecchiatura comprende anche uno sputterer al plasma, che svolge la stessa funzione ma con un principio diverso e per campioni di dimensione maggiore.</p>
Informazioni
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Localizzazione: XXXXXX
Inventario: XXXXXX
Numero di serie: XXXXXX
Valore: XXXXXX